內容概要：半導體濕法設備是芯片制造中用于清洗、蝕刻、去膠等一系列工藝的核心裝備，它是通過使用化學溶液與半導體材料進行反應來實現特定的工藝目的。全球主流芯片的制造分為4個階段：原料制作、單晶生長和晶圓的制造、集成電路晶圓的生產、集成電路的封裝。在目前主流的芯片制程中，濕法清洗是主流的清洗技術路線，占芯片制造清洗步驟數量的90%以上。近年來，隨著全球半導體行業的快速發展，半導體濕法設備市場也呈現出強勁的增長勢頭。據統計，2024年，全球半導體清洗設備市場規模約為794.07億元，較2023年增加82.35億元；中國半導體清洗設備市場規模為158.82億元，較2023年增加30.71億元。預計2025年全球半導體清洗設備市場規模有望達到880億元，中國半導體清洗設備市場規模有望達到195億元。

上市企業：至純科技[603690]、北方華創[002371]、盛美上海[688082]、芯源微[688037]

相關企業：迪恩士SCREEN、東京電子TEL、泛林LAM與細美事SEMES、Lam Research、中芯國際、長江存儲、華虹集團、富樂德、江化微、上海新陽、芯矽科技、重慶華潤、上海華虹、上海積塔、上海格科、廣東粵芯、、青島芯恩、廈門士蘭、南通捷捷、湖南楚微等

關鍵詞：半導體濕法設備市場規模、半導體濕法設備市場競爭格局、半導體濕法設備市場代表企業經營現狀、半導體濕法設備行業發展趨勢

一、半導體濕法設備行業定義及分類

半導體濕法設備是芯片制造中用于清洗、蝕刻、去膠等一系列工藝的核心裝備，它是通過使用化學溶液與半導體材料進行反應來實現特定的工藝目的。半導體濕法設備主要包括濕法清洗刷洗設備、濕法刻蝕設備及去膠設備三類。其根據使用場景的不同，濕法清洗技術路線又被細分成單片清洗設備、槽式清洗設備、批式旋轉噴淋清洗設備和洗刷器等類別，其中單片和槽式清洗設備是目前主流的清洗設備。

二、半導體濕法設備行業發展現狀

目前，全球主流芯片的制造，分為4個階段：原料制作、單晶生長和晶圓的制造、集成電路晶圓的生產、集成電路的封裝。在目前主流的芯片制程中，濕法清洗是主流的清洗技術路線，占芯片制造清洗步驟數量的90%以上。據統計，2024年全球半導體清洗設備市場規模約為794.07億元，較2023年增加82.35億元；預計2025年有望達到880億元。

近年來，隨著國內半導體行業的快速發展，我國半導體清洗設備市場也呈現出強勁的增長勢頭。2024年中國半導體清洗設備市場規模為158.82億元，較2023年增加30.71億元；預計2025年中國半導體清洗設備市場規模有望達到195億元。

相關報告：智研咨詢發布的《中國半導體濕法設備行業市場全景調研及發展前景研判報告》

三、半導體濕法設備行業產業鏈

1、半導體濕法設備行業產業鏈結構

半導體濕法設備是用于半導體制造過程中的一系列設備。半導體濕法設備行業產業鏈上游主要包括高純度化學品（硫酸、氫氟酸、氨水）、超純水系統（超純水系統）等核心材料，以及精密機械部件（耐腐蝕泵、閥門）、傳感器與控制系統（溫度/壓力傳感器、PLC控制器）、納米級過濾器等關鍵零部件，上游的材料與零部件技術壁壘較高，主要由歐美日廠商占據主要份額；行業中游為半導體濕法設備生產制造；行業下游應用于半導體的制造中，終端應用于消費電子、汽車電子、AI/數據中心等領域。

2、半導體濕法設備行業產業鏈上游-濕電子化學品

濕電子化學品又稱超凈高純試劑，是半導體產業中不可或缺的高純度化學品。根據用途，濕電子化學品主要可分為通用化學品和功能性化學品。主要包含酸類、堿類、氧化劑、有機溶劑類和蝕刻液、電鍍液及其添加劑、清洗劑、顯影液和剝離液等產品，是超大規模集成電路、新型顯示、太陽能電池等制造工藝過程中不可缺少的關鍵基礎化工材料，主要應用于清洗、刻蝕、電鍍和表面處理等環節。

在5G通訊、智能終端、汽車電子等新興領域的帶動下，全球集成電路、顯示面板等產業持續保持穩健發展，相關配套行業也迎來持續增長。2023年全球濕電子化學品整體市場規模約684.02億元，其中，集成電路領域市場規模462.00億元，顯示面板領域市場規模134.60億元，太陽能光伏領域市場規模87.42億元；預計到2025年，全球濕電子化學品整體市場規模將達到827.85億元，其中，集成電路領域市場規模約544.60億元，顯示面板領域市場規模約159.00億元，太陽能光伏領域市場規模約124.25億元。隨著半導體行業的發展，預計濕電子化學品在三大應用領域濕電子化學品市場規模均保持持續增長。

3、半導體濕法設備行業產業鏈下游-芯片

在芯片制造過程中，濕法設備扮演著至關重要的角色。濕法設備在半導體制造中不可或缺，從清洗到刻蝕，再到平坦化，它們確保了芯片的高性能和高可靠性。隨著技術的不斷進步，濕法設備的應用范圍和效率將進一步提升，推動芯產業的持續發展。2023年我國芯片產量3514億塊，2024年我國芯片產量4514.2億塊。

四、半導體濕法設備行業競爭格局

1、主要企業

目前，全球半導體濕法設備高度集中，市場主要被迪恩士SCREEN、東京電子TEL、泛林LAM與細美事SEMES等日本、美國、韓國等國外企業主導，這四家企業合計占據全球超90%的市場份額。國內能夠提供半導體濕法設備的企業主要包括至純科技、北方華創、盛美上海及芯源微。國產設備市場占有率低，但發展迅速。國內企業如盛美上海、至純科技、北方華創的成果比肩國際領先企業。盛美半導體、北方華創、至純科技、芯源微等企業已實現部分濕法設備量產，并進入中芯國際、長江存儲、華虹集團等國內頭部晶圓廠供應鏈。

2、代表企業

1）盛美半導體設備（上海）股份有限公司

盛美上海專注于對先進集成電路制造、先進晶圓級封裝制造及大硅片制造領域半導體設備研發、生產和銷售，通過向半導體芯片制造商提供高性能、低消耗的工藝解決方案，致力于提升客戶的生產效率和產品良率。盛美（上海）半導體濕法設備主要產品具體如下：

得益于中國半導體設備市場需求增長、盛美上海在清洗設備領域競爭優勢的提升以及不斷開拓新的半導體設備產品，銷售收入持續增長，保持持續盈利。據企業公告數據顯示，2024年盛美上海實現營業收入56.18億元，同比增長44.48%；歸屬于上市公司股東的凈利潤11.53億元，同比增長26.65%。受益于半導體行業景氣以及公司產品結構多元化的發展策略，2024年盛美上海半導體清洗設備收入為40.57億元，同比增長約55.18%；先進封裝濕法設備收入為2.46億元，同比增長約53.55%。

2）上海至純潔凈系統科技股份有限公司

經過多年的努力，至純科技已成為國內集成電路領域高純工藝系統的領導者、濕法設備的領先者，并成功躋身為國內28納米及以上主流集成電路制造企業的大宗氣體主要本土供應商之一。在技術研發方面，至純科技濕法設備產品成功開發了四大平臺，覆蓋濕法幾乎全部工藝，在仍然被國際廠商壟斷的部分機臺環節，至純科技保持了國內領先的驗證及交付進度。至純科技旗下至微科技是國內濕法設備主要供應商之一，能夠覆蓋晶圓制造中包括邏輯電路、高密度存儲、化合物半導體特色工藝等多個細分領域的市場需求。據企業公告數據顯示，2024年前三季度，至純科技實現營業總收入26.39億元，同比上升20.04%；歸母凈利潤1.93億元，同比下降1.64%。

六、半導體濕法設備行業發展趨勢

未來，隨著國內晶圓產能擴張（如中芯京城、長存二期）和技術迭代，中國半導體濕法設備企業有望在全球半導體產業鏈中扮演更重要的角色。未來，隨著國內企業技術的不斷創新，國產替代加速，設備將更高潔凈度與集成化，智能化升級，國際市場份額逐步擴大。

以上數據及信息可參考智研咨詢（www.szxuejia.com）發布的《中國半導體濕法設備行業市場全景調研及發展前景研判報告》。智研咨詢是中國領先產業咨詢機構，提供深度產業研究報告、商業計劃書、可行性研究報告及定制服務等一站式產業咨詢服務。您可以關注【智研咨詢】公眾號，每天及時掌握更多行業動態。