“我們不生產(chǎn)水,我們只是大自然的搬運工“,一家生產(chǎn)礦泉水公司的口號卻與一家半導(dǎo)體企業(yè)的理念遙相呼應(yīng)。自2017年臺積電市值躍居為全球首位后,像美國英特爾這樣的半導(dǎo)體企業(yè)也只能跟其身后。在掌門人張忠謀的帶領(lǐng)下,臺積電走了芯片代工這條路,并且成為了蘋果、高通以及華為自研芯片離不開的代工廠。但代工巨頭臺積電的芯片制造設(shè)備對美國具有極大的依賴性,在美國對華為的步步緊迫下,為了防止中興事件的再一次發(fā)生,華為芯片的代工也逐漸轉(zhuǎn)向了國內(nèi)芯片制造公司。
華為砍掉臺積電代工的5納米芯片訂單量是否轉(zhuǎn)向國內(nèi)供應(yīng)鏈?
根據(jù)有關(guān)消息,目前華為旗下的海思公司砍掉了交由臺積電代工5納米芯片的訂單量,但如今僅有臺積電和三星兩大企業(yè)拿下了5納米加工工藝,至于華為是否想扶持除屏幕之外的芯片國產(chǎn)供應(yīng)鏈我們不得而知,根據(jù)目前的國際半導(dǎo)體形式,華為也必須打造一條可靠的國產(chǎn)芯片供應(yīng)鏈。目前華為為自家手機(jī)新研制的14納米級芯片麒麟710A,就是由中芯國際代工生產(chǎn)的芯片,這僅僅是華為從設(shè)計國產(chǎn)芯片到芯片制造國產(chǎn)化的第一步,而中芯國際能生產(chǎn)芯片的關(guān)鍵設(shè)備就是“光刻機(jī)”。
中芯國際已經(jīng)代工華為麒麟710A 14納米級芯片并有能力實現(xiàn)量產(chǎn)
與臺積電本身的性質(zhì)相似,中芯國際也是屬于全球先進(jìn)的芯片代工企業(yè)之一,自2000年成立的中芯國際經(jīng)過上十年的發(fā)展,做到了全中國規(guī)模最大技術(shù)最為先進(jìn)的芯片加工企業(yè)。而中芯國際能替華為代工14納米芯片的原因在于,其已經(jīng)掌握14納米加工工藝并且實現(xiàn)了量產(chǎn),這也是中國中高端半導(dǎo)體行業(yè)的里程碑。不僅如此中芯國際目前正在抓緊時間向著7納米級芯片邁進(jìn),而且還斥資8.4億人民幣向ASML公司訂購了一臺極紫外光刻機(jī),以謀求在7納米級技術(shù)上有所突破。
兩年前中芯國際向ASML公司花費8.4億訂購的EUV光刻機(jī)至今未到貨
但令所有人沒想到的是,這臺堪稱天價的芯片加工設(shè)備歷經(jīng)兩年仍未交付,并且近期在美國的刁難下其交付仍然遙遙無期。那么EUV光刻機(jī)為何會賣出天價,相較于普通的DUV深紫外光刻機(jī)有什么不同呢?在硅晶圓加工成芯片的過程中,最為核心的就是紫外線曝光步驟。在光刻機(jī)激光器、能量控制器等準(zhǔn)備就緒后,光掩膜臺上已經(jīng)放置好了印有芯片電路的光掩膜。在紫外線的曝光下,掩膜上的電路就會投射到曝光臺上的晶圓,而且晶圓上已經(jīng)涂抹了感光性的光刻膠,這時芯片設(shè)計電路就會在晶圓上刻蝕出現(xiàn)。
相較于普通的DUV深紫外光刻機(jī)EUV光刻機(jī)有什么與眾不同之處呢?
而由光刻機(jī)激光器發(fā)出的紫外光對著芯片加工工藝有著關(guān)鍵的影響,芯片加工精度的提高與光源的波長有著緊密的聯(lián)系。目前加工芯片應(yīng)用最為廣泛的光刻機(jī)當(dāng)屬DUV深紫外光刻機(jī),這種光刻機(jī)的波長就是從436納米逐漸縮小至193納米的,但是這種光刻機(jī)加工芯片的極限為7納米,想要進(jìn)一步開發(fā)波長更短的DUV極為困難。所以ASML公司最終選擇改變光源的方式,研制出采用13.5納米極紫外光的光刻機(jī),而且全球僅有其一家公司掌握EUV光刻機(jī)制造技術(shù),其壟斷地位自然決定了EUV光刻機(jī)的高價格。
上月初中芯國際到貨的一臺光刻機(jī)并非是EUV極紫外光刻機(jī)
在上月初一臺來自ASML公司的光刻機(jī)被中芯國際接收,一時引起了不小的反響,但值得注意的是,這臺光刻機(jī)并非EUV極紫外光刻機(jī),而是一臺DUV深紫外光刻機(jī)。中芯國際想要在7納米以下芯片研制上有所建樹,ASML公司的EUV光刻機(jī)可以說具有關(guān)鍵性的作用。國產(chǎn)光刻機(jī)雖然精度不高,但也在穩(wěn)步發(fā)展中,如今中國光刻機(jī)的進(jìn)展也有所突破。從上月開始中國安芯半導(dǎo)體公司在一個月左右陸續(xù)有兩臺光刻機(jī)出貨,其國產(chǎn)化率高達(dá)70%,并且已經(jīng)交付使用。
中國安芯半導(dǎo)體公司在一個月左右生產(chǎn)交付了兩臺國產(chǎn)率70%的光刻機(jī)
其中第一臺光刻機(jī)的目的地是海康威視,主要被用作耳溫槍的制造,第二臺光刻機(jī)被國內(nèi)一家研究所用于互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體領(lǐng)域的研究,這家靠翻新光刻機(jī)起家的企業(yè)已經(jīng)轉(zhuǎn)向了國產(chǎn)光刻機(jī)的研制,此次出貨兩臺光刻機(jī)無疑讓所有人耳目一新。目前我國國產(chǎn)光刻機(jī)的整體水平大致在90納米左右,中科院在22納米光刻機(jī)技術(shù)上有所進(jìn)展,光刻機(jī)的研發(fā)只能一步步靠技術(shù)積累。如今中國成立的國家集成電路產(chǎn)業(yè)基金前期投入已經(jīng)達(dá)到3387億,目的就是為了扶持國產(chǎn)芯片、光刻機(jī)等半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展。未來國產(chǎn)光刻機(jī)的研發(fā)之路仍然任重道遠(yuǎn),且交給時間來見證。


2025-2031年中國光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)發(fā)展態(tài)勢及投資決策建議報告
《2025-2031年中國光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)發(fā)展態(tài)勢及投資決策建議報告》共十一章,包含光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展趨勢分析,2025-2031年中國光刻機(jī)的投資風(fēng)險與投資建議,研究結(jié)論及發(fā)展建議等內(nèi)容。



