內容概要：光刻機，又稱光刻對準曝光機、掩模對準曝光機、曝光系統或光刻系統等，是光刻工藝乃至整個芯片制造過程中的核心設備。近幾年來，隨著半導體產業的加速崛起，我國光刻機應用需求迅速激增。同時，我國政府正在加快努力推動半導體產業發展，光刻機是中央政策指明要重點突破發展卡脖子技術及裝備，因此，國內光刻機行業得到了資金支持、稅收優惠等一系列國家政策傾斜，持續助力了國產光刻機生產能力提升，推動了國內光刻機市場規模上漲。據統計，2023年，我國光刻機產量達124臺，全國光刻機市場規模已突破至160.87億元。

相關上市企業：阿斯麥（0M42）；芯碁微裝（688630）；富創精密（688409）；南大光電（300346）；芯源微（688037）；雅克科技（002409）；新萊應材（300260）；大族激光（002008）；容大感光（300576）；旭光電子（600353）；賽微電子（300456）等

相關企業：上海微電子裝備（集團）股份有限公司；天津芯碩精密機械有限公司；北京科益虹源光電技術有限公司等

關鍵詞：產業鏈；全球光刻機市場規模；國內光刻機產量；國內光刻機市場規模；產業競爭格局；發展趨勢等

一、行業概況

光刻機，又稱光刻對準曝光機、掩模對準曝光機、曝光系統或光刻系統等，是光刻工藝乃至整個芯片制造過程中的核心設備。按操作簡便性程度，光刻機可分為手動光刻機、半自動光刻機和全自動光刻機；按曝光方式的不同，可分為接近接觸式光刻機、直寫光刻機和光學投影式光刻機；按光源類型的不同，可分為紫外（UV）光刻機、深紫外（DUV）光刻機和極紫外（EUV）光刻機。

光刻機行業產業鏈上游為光刻機生產所需的材料、設備及組件的生產供應環節，主要包括光刻膠、電子特氣、涂膠顯影設備等材料及設備，以及激光器、掩膜板、掩膜臺、遮光器等組件產品。產業鏈中游為光刻機生產制造環節，代表廠商有ASML、Canon、大族激光、芯碁微裝、Nikon、上海微電子等。產業鏈下游為光刻機應用需求領域，主要包括芯片制作、芯片封裝、功率器件制造、LED、MEMS制造等產業。

二、全球市場

近年來，消費電子領域的需求呈現出相對低迷的態勢，然而，在這樣的大環境下，電動汽車、風光儲以及人工智能等嶄新的需求領域卻異軍突起，成為了半導體產業持續成長的強勁新動能。在這些新興需求的有力推動下，全球光刻機應用需求不斷增加，市場規模實現了平穩增長。數據顯示，2023年，全球光刻機市場規模已增長至271.3億美元，2024年有望進一步增至315億美元。

從全球光刻機產品銷量結構占比情況來看，目前全球光刻機行業銷售仍以中低端產品（KrF、i-Line）為主，占比分別為37.9%和33.6%；其次分別為ArFi、ArF dry、EUV，占比分別為15.4%、5.8%及7.3%。這表明不同類型光刻機在市場中的需求存在差異。值得注意的是，近年來，隨著半導體產業發展，EUV已逐漸成為全球光刻機的重要發展方向之一，將成為未來全球光刻機行業發展的主要推力。

相關報告：智研咨詢發布的《中國光刻機產業發展態勢及投資決策建議報告》

三、國內市場

光刻機是芯片制造的關鍵設備之一。近幾年來，隨著半導體產業的加速崛起，我國光刻機應用需求迅速激增。同時，我國政府正在加快努力推動半導體產業發展，光刻機是中央政策指明要重點突破發展卡脖子技術及裝備，因此，國內光刻機行業得到了資金支持、稅收優惠等一系列國家政策傾斜，持續助力了國產光刻機生產能力提升，推動了國內光刻機市場規模上漲。據統計，2023年，我國光刻機產量達124臺，全國光刻機市場規模已突破至160.87億元。

我國光刻機行業產品供應嚴重依賴ASML光刻機進口。但由于ASML必須獲得荷蘭政府的出口許可證才能出售其先進的DUV工具，因此，實際上我國實體難以獲得這些機器。近年來，在國家政策支持下，國內企業加速研發突破光刻機制造技術，目前國產光刻機在90nm及以下工藝節點方面取得了重要進展。例如，上海微電子自主研發的600系列光刻機已實現90nm工藝的量產，并正在進行28nm浸沒式光刻機的研發工作。此外，工信部發布的《首臺（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄（2024年版）》中，也披露了一臺氟化氬光刻機，其分辨率≤65nm、套刻≤8nm，有望用于28nm芯片產線中的部分工藝。但整體來說，目前我國光刻機行業國產化率僅為2.5%，整機技術仍與海外存在差距較大。數據顯示，2023年我國進口光刻機數量高達225臺，進口金額高達87.54億美元，進口金額創下歷史新高，且預計在未來3-5年內，我國光刻機仍將主要依賴于進口。

四、競爭格局

從全球競爭市場來看，目前全球光刻機行業呈現寡頭壟斷格局，荷蘭ASML、日本Canon和日本Nikon三家供應商占據絕大多數市場份額。其中，荷蘭ASML市場份額占比82.1%，日本Canon市場份額占比10.2%，日本Nikon市場份額占比7.7%。

從國內市場看中，上海微電子是目前中國第一家也是唯一一家光刻機巨頭，具備90nm及以下的芯片制造能力。根據公開數據，上海微電子光刻機出貨量占國內市場份額的比例已超過80%。此外，北京華卓精科、北京科益虹源等國內企業也在積極研發和生產光刻機設備，共同推動國內光刻機行業的發展。目前，我國14nm光刻機已經進入量產階段，而7nm的研發也在緊鑼密鼓地進行。

上海微電子裝備（集團）股份有限公司（即上海微電子）成立于2002年，簡稱SMEE，主要致力于半導體裝備、泛半導體裝備、高端智能裝備的開發、設計、制造、銷售及技術服務，是中國領先的光刻設備制造商，旗下光刻機產品涵蓋了從幾微米到28納米的多種技術節點，廣泛應用于集成電路前道、先進封裝、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等半導體制造領域。

合肥芯碁微電子裝備股份有限公司成立于2015年6月，2021年 4 月在科創板上市，股票簡稱“芯碁微裝”。芯碁微裝主要從事以微納直寫光刻為技術核心的直接成像設備及直寫光刻設備的研發、制造、銷售以及相應的維保服務，是國內直寫光刻設備龍頭企業，在直寫光刻設備領域推出了多個產品系列，如MAS系列、RTR系列、NEX系列、FAST系列、DILINE系列等，已廣泛應用在IC、MEMS、生物芯片、分立功率器件、IC掩膜版制造、先進封裝、顯示光刻等環節。數據顯示，2024年上半年，芯碁微裝營業收入為7.18億元，同比增長37.05%。

五、發展趨勢

1、產業發展將日益繁榮

光刻機行業正經歷著技術上的快速進步，以滿足日益增長的半導體制造需求。隨著新能源汽車、人工智能、物聯網等新興產業的快速發展，芯片需求持續增長，這將進一步推動光刻機市場的繁榮。EUV光刻機作為當前發展的熱點，未來有望在精度和效率上實現更大突破。同時，多重圖案化技術、原子層沉積技術等新技術也將得到廣泛應用。這些技術進步將不僅提升光刻機的性能，還將推動半導體產業的整體發展。

2、國產化進程加速

近年來，我國在光刻機領域取得了顯著進展，成功打破了部分技術封鎖，實現了全流程國產化。這一突破不僅為國內高科技產業的發展注入了強大動力，還使得我國在全球光刻機市場中的地位逐漸提升。隨著國內半導體產業的快速發展和國產替代政策的推進，國產光刻機有望在市場上占據更大的份額。同時，國內光刻機企業也在不斷加強技術創新和資源整合，以提升自身競爭力。

3、行業競爭不斷加劇

光刻機市場呈現寡頭競爭態勢，荷蘭ASML、日本Nikon和Canon是主要競爭者。然而，隨著技術的不斷進步和市場的不斷擴大，競爭格局將發生變化。ASML在高端和EUV光刻機領域占據絕對優勢，但國內光刻機企業正在通過技術創新和資源整合縮小與國際先進水平的差距。未來，國內光刻機企業有望在全球市場中占據一席之地，與國際巨頭形成更加激烈的競爭態勢。

以上數據及信息可參考智研咨詢（www.szxuejia.com）發布的《中國光刻機產業發展態勢及投資決策建議報告》。智研咨詢是中國領先產業咨詢機構，提供深度產業研究報告、商業計劃書、可行性研究報告及定制服務等一站式產業咨詢服務。您可以關注【智研咨詢】公眾號，每天及時掌握更多行業動態。