據(jù)韓科信部報道，韓美聯(lián)合研究團(tuán)隊利用單原子層水平粗糙度的超平銅薄膜，在理論和實驗中首次驗證了銅的氧化原理。查明氧氣進(jìn)入途徑及開發(fā)防止氧氣自行氧化的薄膜技術(shù)。相關(guān)研究成果發(fā)表在《自然》上。

經(jīng)1年持續(xù)使用高分辨率透射電子顯微鏡觀測暴露在空氣中的超平銅薄膜，研究人員沒有觀察到銅表面的自然氧化物膜和原子層面的氧化。計算氧氣進(jìn)入銅內(nèi)部的能量變化的結(jié)果顯示，當(dāng)表面粗糙度在兩個原子層以上時，氧氣很容易滲透到銅內(nèi)部，但在完全平坦的表面或單原子層時，氧氣滲透需要很大能量，因此常溫下不會發(fā)生氧化。同時超平薄膜表面存在的氧氣具有始終維持在50％的自我調(diào)節(jié)功能。

注：本文摘自國外相關(guān)研究報道，文章內(nèi)容不代表本網(wǎng)站觀點和立場，僅供參考。

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